SML系列（耐刻蚀）

产品特性:

正性电子束光刻胶，EM RESIST, 5nm线宽，高分辨率，高深宽比，垂直性好，耐刻蚀，与基底粘附性好。

光源E-beam

胶厚50-5000nm

应用:

适用于电子束光刻，刻蚀掩膜层等工艺。