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HTKN601系列
 

产品特性:

UV负性光刻胶，高分辨率，可广泛用于半导体的光刻工艺和金属剥离工艺分辨率可以达到300nm，胶厚范围在0.4µm-1.2µm。

光源248nm

  
     
   
  旋涂曲线  
     
   
 

金属剥离效果图

  
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