Lift-off胶

产品特性


紫外负性剥离光刻胶，是ift-off制造工艺的专用光刻胶。

黏附性好，耐高温，通过曝光能量易于控制侧壁的角度

高灵敏度：对小于380nm的波长有很好的灵敏度，

光源i-Lin或g/h-Line，宽谱

胶厚：0.5-20μm

应用：

无需使用增粘剂，采用单层lift-off工艺实现金属和电介质图案的制作，适用于MEMS、封装、生物芯片等工艺。