在科研领域，我们常见的光刻设备是接触式光刻机，接触式光刻机的主要特点是：

1>曝光时掩模板和衬底之间接触或保持一个很小间隙，曝光方式分为真空接触、硬接触、软接触和接近式接触；

2>采用光学显微镜进行对准；

3>掩模板图形和光刻图形为1:1比例；

4>可进行双面对准；

5>光刻胶厚度没有限制。