深圳市云谷半导体材料有限公司

 
繁體中文
  在线:光刻胶咨询  产品咨询
 
技术支持:
光刻相关
研磨相关
其他
应用介绍
常见问题
产品展示:
光刻胶
Futurrex
DONGJIN
其他品牌
研磨产品
Engis
绝缘油墨
BOLB
新闻资讯:
专家:中国光刻技术体系的建立需...
【供应】美国Engis(英格斯)...
云谷半导体供应优质的负性光刻胶
研磨抛光材料价格持续上涨
云谷公司成为韩国MIDAS光刻机...
【供应】美国Engis(英格斯)...
SEMI:半导体材料市场反弹至创...
【供应】光刻胶品牌FUTURRE...
金刚石研磨膏使用方法
云谷公司积极参加业界展览
 
当前位置: 首页 > 技术支持 > 光刻相关 > 光刻胶的构成及其作用
光刻胶的构成及其作用
 

       光刻胶主要是由成膜树脂、光引发剂、溶剂为主要成分的,还包含有抗氧化剂,均匀剂和增粘剂等辅助成分。

成膜树脂:


       以正胶为例,大部分正性光刻胶的树脂是酚醛树脂,一种苯酚和甲醛合成的树脂,其分子链的长度是光刻胶性能的关键调节因素:长的分子链可以提高这热稳定性,减少残膜率和显影速率,而短的分子链能提高粘度,而光刻胶是由这些混合的树脂依靠着这些物理和化学特性组合而成的。

光引发剂:

       以i线正胶为例,其光引发剂是一种带有重氮萘醌基团的化合物,在经过曝光后转化为一种羧酸,伴随着氮气的释放和水分的吸收,其在碱溶液中的溶解速率增加了三个数量级。混入该化合物后的线性酚醛树脂,即可通过曝光来改变其在弱碱性溶液中的溶解速率,以达到图形化的目的。

溶剂:

       几乎所有的正性光刻胶的溶剂是PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯),光刻胶大约55-65%的原料就为此溶剂,具有很好的溶解性,适合将成膜树脂和光引发剂液化以便于旋转涂敷。其沸点高达145℃,常温下挥发性低,是一种稳定的溶剂。在烘烤过程中,该溶剂可以充分挥发,否则剩余的溶剂会影响光刻胶的性质:在显影液中,PGMEA转变为乙酸并能增加腐蚀,又或残余的溶剂会降低光刻胶热稳定性。


 

 

上一篇:光刻的基本原理——极紫外光刻 下一篇:光刻胶的选择
返回首页 返回页首
  关于我们 产品展示 新闻动态 技术支持 代理品牌 联系我们  
电话:0755-25829022    25883522    传真:0755-82352622    邮 箱:yungu@yungutech.com
公司地址:广东省深圳市罗湖区桂园路2号电影大厦A座1002
版权所有:深圳市云谷半导体材料有限公司  粤ICP备13001712号-1