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AZ光刻胶常用性能表 |
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| 类型 |
型号
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厚度 |
分辨率
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后道工艺
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| AZ光刻胶 |
AZ1500系列 |
0.5-6μm
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高分辨正胶 |
高感光度，高产出率，高黏着性，适用于湿法腐蚀工艺，广泛应用于全球半导体行业。 |
| AZ5214 |
1.1-2μm |
高分辨率正胶/负胶 |
高分辨率，耐刻蚀，垂直性好，可反转成负胶，做lift-of工艺，制作电极。 |
| AZ6112 |
1-2μm |
高分辨率正胶 |
薄胶，适用于干法刻蚀 |
| AZ6130 |
2.5-3μm |
1.5μm |
薄胶，适用于干法刻蚀 |
| AZ4000系列 |
3-60μm |
高分率正胶 |
高陡直性，高粘着性，高分辨率，耐刻蚀，适用TSV工艺。 |
| AZ4500系列 |
3-10μm |
正胶 |
灰阶光刻 |
| AZ4933 |
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正胶 |
喷涂的光刻胶，V型槽和沟槽，锐边覆盖最佳 |
| AZ9260 |
6-15μm |
高分辨率正胶 |
适用于干法刻蚀 |
| AZnLOF2000系列 |
1.8-12μm |
高分辨率负胶 |
感光性好，耐高温，适用于lift-of工艺 |
| AZ50XT |
15-65μm |
高分辨率负胶 |
厚胶，垂直性好，适用于电镀与干法刻蚀， |
| AZ显影液 |
300MIF |
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薄AZ系列光刻胶的显影液 |
| AZ400K |
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厚AZ系列光刻胶的显影液 |
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