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美国Microchem Su-8 2000系列

 

产品特性

基于环氧型树脂的负性光刻胶,在近紫外光范围内吸收率低,具有较好的曝光均匀性

高深宽比:5:1,侧壁垂直性好,光学透明,耐高温,抗腐蚀

光源:Near UV (350-400nm) 推荐i-Line,也可用于E-beam, X-ray。

厚度范围:0.5-650µm,型号丰富

可根据不同的厚度要求选择型号

 
     
   
  旋涂曲线  
     
 
应用:

高深宽比,垂直性好,耐高温,光学透明,适用于MEMS工艺,钝化层,微流控以及光电子器件。

 
     
   
  10 µm features,50 µm Su-8 2000 coating  
 
 
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