美国Microchem Su-8 3000系列

产品特性

高深宽比：>5:1, 侧壁垂直性好，光学透明，耐高温，抗腐蚀较SU-8 2000具有更好的基底粘附力，减少在工艺过程中产生内应力积累，适用于MEMS工艺，光电器件，微流控，MEMS芯片制作以及作为芯片绝缘，保护层使用。

光源：Near UV (350-400nm) 推荐i-Line，也可用于E-beam，X-ray。

厚度范围：5-100µm

Contact aligner exposure
10 µm features, 50 µm SU-8 3000 coating