KMPR
产品特性 负性光刻胶,高深款比:>5:1,高分辨率,垂直性好。 可用TMAH,KOH或者PGMEA显影,易去胶,耐干法刻蚀优异的金属黏附性和电镀膜液稳定性,金属黏附性和电镀膜液稳定性较好。 厚度范围:5-115μm 光源:Near UV (350-400nm) 推荐i-Line, 也可用于E-beam,X-ray