PMMA

产品特性：

电子束正胶，EM Resist PMMA，适用于电子束光刻，纳米压印以及石墨烯转移等，高分辨率，具有35K，120K，350K，495K，950K等多种分子量。

光源E-beam，膜厚30-2000nm。

工艺条件

溶剂：苯甲醚； 

前烘：180°C，2min

曝光：100-300 uC/cm2 @ 30kV；

显影：MIBK:IPA (1:3)，30s

漂洗：IPA，30