SPR220系列

产品特性：

正性光刻胶，g/h/i-Line曝光，胶厚1-30µm,分辨率1µm,均匀性好，粘附性优良。

应用：

MEMS和凸块工艺等厚膜应用。耐干法/湿法腐蚀，适用于选择性电镀，深硅刻蚀等工艺。