HTI560/560-8

产品特性：

化学放大型正性光刻胶,良好的分辨率0.8μm@5μm THK

工艺窗口：DOF > 2μm

光源i-Line，胶厚1-8μm。

应用：集成电路PAD工艺或高能注入工程。可用于厚胶快速曝光，提高光刻产能。