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SU-8 microchem系列

 

产品特性

大高宽比,透明度高,垂直性好。

光源:Near UV(350-400nm),推荐i-lin,也可用于E-beam,X-ray

胶厚:0.5-650μm

 
     
   
  旋涂曲线  
     
 

应用:适用于MEMS工艺,钝化层,微流控以及光电子器件。

 
     
 

 

 
 
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