对已曝光的感光材料进行湿化学处理以产生可见图像。或者对已曝光的光刻胶涂覆层，进行湿化学处理,有选择性地去除光刻胶，以产生可见图像。

       以绝大部分正胶为例，显影的原理是由于曝光后的光刻胶薄膜在弱碱性溶液中的溶解速率呈两三个数量级的提升，使得其快速溶解，而未曝光区域溶解速率极低得以保留。

       根据显影液接触衬底的方式不同，分为浸泡显影、旋喷显影和浸润显影，可根据不同光刻胶厚度等因素来选择。